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日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等 G1000 G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用， 在低壓環(huán)境下對被清洗物體表面進行清洗的系統(tǒng)。通過根據(jù)用途選擇所使用的氣體， 不僅可以可靠地去除有機污染物，還可以可靠地去除無機污染物。