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日本otsuka大塚非破壞性基材鍍層測(cè)厚儀 特點(diǎn)： 手持式，便于攜帶至現(xiàn)場(chǎng) 測(cè)量精度達(dá)到0.1μm單位 適用于具有形狀的樣品，可進(jìn)行非破壞性測(cè)量 可測(cè)量不同基材材質(zhì)上的鍍膜

日本densoku電測(cè)小型熒光X射線式膜厚計(jì) 采用雙層過濾器 除數(shù)字濾波器外，還采用了Co和Ni兩種機(jī)械濾波器，因此即使面對(duì)原子序數(shù)相鄰的基材與鍍層組合（如銅基材上的鎳鍍層、鋅基材上的銅鍍層），也能實(shí)現(xiàn)高精度測(cè)量。 內(nèi)置5種準(zhǔn)直器 標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)置0.1、0.2、0.5、1.0、2.0毫米直徑的五種準(zhǔn)直器。 另有可選配件0.05mmφ及0.05mmφ×0.5mmφ的準(zhǔn)直儀供選擇。 自診斷功能的維護(hù)

日本densoku電測(cè)絕緣物金屬薄膜測(cè)厚儀 可快速測(cè)量絕緣物上的金屬薄膜（印刷電路板的銅箔、電鍍層等），雙面板和多層板的背面或內(nèi)層也不受影響。可選擇兩種測(cè)量范圍，能夠測(cè)量2-120μm的金屬薄膜。

日本densoku電測(cè)渦電流式金屬涂層測(cè)厚儀 測(cè)量基材與涂層間導(dǎo)電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導(dǎo)電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測(cè)量。

日本densoku電測(cè)無損鋅鉻金屬電鍍層測(cè)厚儀 測(cè)量基材與涂層間導(dǎo)電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導(dǎo)電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測(cè)量。

日本densoku電測(cè)渦電流式涂層鍍層膜厚儀 測(cè)量基材與涂層間導(dǎo)電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導(dǎo)電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實(shí)現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測(cè)量。

日本densoku電測(cè)鍍銀銅 鍍錫銅鍍層測(cè)厚儀 可記錄最多50個(gè)測(cè)量通道。 可以設(shè)置最多5層的多層皮膜的測(cè)定條件。 可以使用雙脈沖和電位差測(cè)定來測(cè)量比較電極（歐普申）和電位差，從而測(cè)定滴定曲線的電位差。 可以區(qū)分“錫/銅”測(cè)定中的純錫層和合金層進(jìn)行測(cè)定。 可以自動(dòng)顯示與皮膜和基材組合使用的電解液的種類。

日本densoku電測(cè)鉻鎳銅錫等鍍層測(cè)厚儀 可記錄最多50個(gè)測(cè)量通道。 可以設(shè)置最多5層的多層皮膜的測(cè)定條件。 可以使用雙脈沖和電位差測(cè)定來測(cè)量比較電極（歐普申）和電位差，從而測(cè)定滴定曲線的電位差。 可以區(qū)分“錫/銅”測(cè)定中的純錫層和合金層進(jìn)行測(cè)定。 可以自動(dòng)顯示與皮膜和基材組合使用的電解液的種類。 電解式膜厚計(jì) GCT-311